多目的高温真空炉

■特徴

高真空や不活性ガス雰囲気中において、金属・セラミックスの熱処理を行います。またホットプレス等の機構を付加することが可能であり、多様な実験・生産を行うことができます。
オプションとして、ホットプレス機構、自動昇降機構、ガス導入機構などを追加することが可能です。
お客様のニーズに合わせたカスタマイズを承っております。

■仕様

●使用温度
常用：2400℃　　最高：2500℃
●雰囲気
到達真空度：10^-4Pa（10^-6Torr）
不活性ガス雰囲気
●ヒーター
メッシュヒーター
●均熱帯寸法
φ70 × 150 H（目安）