■特徴
本炉は高真空下（10-5Pa）、及び水素雰囲気中での焼成可能な様、排気系にターボ分子ポンプを搭載しています。
又、ベーキング機構を兼ね備えた炉です。高純度材料の研究開発に最適な炉です。
高真空雰囲気炉
■仕様
- ●温度 常用２４００℃ 最高２５００℃
- ●到達真空度 10-5Pa
- ●雰囲気 真空中、水素中、Ar中
本炉は高真空下（10-5Pa）、及び水素雰囲気中での焼成可能な様、排気系にターボ分子ポンプを搭載しています。
又、ベーキング機構を兼ね備えた炉です。高純度材料の研究開発に最適な炉です。